[实用新型]一种清洗脱胶翻转机无效
| 申请号： | 201020627835.7 | 申请日： | 2010-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN201994323U | 公开（公告）日： | 2011-09-28 |
| 发明（设计）人： | 张敏 | 申请（专利权）人： | 湖州晶能电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18;B08B3/02 |
| 代理公司： | 杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 | 代理人： | 韩洪 |
| 地址： | 313023 浙江省湖*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种清洗脱胶翻转机，包括积水池、对称设在积水池两侧的脱胶池，所述积水池上设有喷水架，所述喷水架上设有冲洗喷头，所述积水池与两侧的脱胶池的交界处均转接有一个与冲洗喷头对应的直角翻转架。能够减少人为碰撞损失，降低生产成本和工作强度，提高工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 脱胶 转机 | ||
【主权项】：
一种清洗脱胶翻转机，其特征在于：包括积水池(1)、对称设在积水池(1)两侧的脱胶池(2)，所述积水池(1)上设有喷水架(3)，所述喷水架(3)上设有冲洗喷头(4)，所述积水池(1)与两侧的脱胶池(2)的交界处均转接有一个与冲洗喷头(4)对应的直角翻转架(5)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
