[实用新型]一种新型激光晶体无效
申请号: | 201020631842.4 | 申请日: | 2010-11-30 |
公开(公告)号: | CN201868724U | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 谢永灵 | 申请(专利权)人: | 世雄科技有限公司 |
主分类号: | H01S3/06 | 分类号: | H01S3/06 |
代理公司: | 深圳市中联专利代理有限公司 44274 | 代理人: | 余显忠 |
地址: | 中国香港特别行政区红*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开一种新型激光晶体,包括YVO4晶体,在YVO4晶体上切入一条缝隙,所述缝隙从一端表面一直延伸至YVO4晶体的中心,所述缝隙宽度介于0.001-0.005mm之间,缝隙深度介于0.5-5mm之间,所述缝隙在YVO4晶体内的末端宽度为0。本实用新型具有以下优点,可以过滤杂乱的激光,从而输出高质量的激光;在Q开关作用时,有助于锁住激光,从而提高激光的峰值能量;缝隙可以很好地释放泵浦源带来的热效应,使激光晶体可承受更高的泵浦能量。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 激光 晶体 | ||
【主权项】:
一种新型激光晶体,包括YVO4晶体,其特征在于,在YVO4晶体上切入一条缝隙,所述缝隙从一端表面一直延伸至YVO4晶体的中心,所述缝隙宽度介于0.001 0.005mm之间,缝隙深度介于0.5 5mm之间,所述缝隙在YVO4晶体内的末端宽度为0。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于世雄科技有限公司,未经世雄科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201020631842.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种易于温度控制的电化学反应池
- 下一篇:生物芳烃的制备设备