[实用新型]溅射靶表面含氧量的控制系统、探针无效

专利信息
申请号: 201020643184.0 申请日: 2010-12-06
公开(公告)号: CN201901698U 公开(公告)日: 2011-07-20
发明(设计)人: 徐鹤霖;金秀男;常亚平 申请(专利权)人: 杭州韩世通信电子有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/54
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 周希良;徐关寿
地址: 310019 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了溅射靶表面含氧量的控制系统,包括镀ITO膜真空室、溅射靶、探针、信号处理器、氧气流量计、氧气源,镀ITO膜真空室内置溅射靶、探针,探针采用表面镀铂的钨丝,探针置于近溅射靶处,通过导线引出至处于镀ITO膜真空室之外的信号处理器,信号处理器与氧气流量计相联并通信,信号处理器把控制信号传输至氧气流量计,氧气流量计分别与镀ITO膜真空室、氧气源连通,氧气源通过氧气流量计与镀ITO膜真空室连通。本实用新型还公开了用于溅射靶表面含氧量控制的探针,采用表面镀铂的钨丝。本实用新型溅射靶表面含氧量的控制系统能够对充氧量进行自动控制,控制氧气流量的大小,使溅射成膜的含氧量稳定,其特别适用于含氧量高的ITO膜的镀制。
搜索关键词: 溅射 表面 含氧量 控制系统 探针
【主权项】:
用于溅射靶表面含氧量控制的探针,其特征是采用表面镀铂的钨丝。
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