[实用新型]超大产能PECVD设备有效
申请号: | 201020654655.8 | 申请日: | 2010-12-13 |
公开(公告)号: | CN201908130U | 公开(公告)日: | 2011-07-27 |
发明(设计)人: | 王鹏;崔慧敏;李丙科 | 申请(专利权)人: | 青岛赛瑞达电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/458 |
代理公司: | 山东清泰律师事务所 37222 | 代理人: | 宁燕 |
地址: | 266000 山东省青岛市高*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本实用新型所述的超大产能PECVD设备,主要包括硅片、石墨舟、炉体;其中石墨舟为7列,设置于炉体内,硅片设置于石墨舟的槽内;本实用新型所述的超大产能PECVD设备,其石墨舟在原有的基础上增加了1列,炉体的口径和长度也在原来的基础上增大了,同时与之相关的其他外部零件也进行了修改,配备了难于制造的当今最大口径的石英管,在气路设计上也配备了与适应的气路件;本实用新型使太阳能电池片生产的效率得到提高,适应了快速发展的太阳能光伏发电产业的发展。 | ||
搜索关键词: | 超大 产能 pecvd 设备 | ||
【主权项】:
一种超大产能PECVD设备,主要包括硅片、石墨舟、炉体,其特征在于所述石墨舟为7列,设置于炉体内,硅片设置于石墨舟的槽内。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的