[实用新型]多源γ校准装置

摘要

本实用新型公开一种多源γ校准装置。它包括照射室、贮源容器、放射源选择与升降系统和智能控制器。本实用新型采用贮源容器与照射室隔离式设计，减少了其它源对在用源的影响。照射室位于上屏蔽体中央，可将透过容器的辐射和容器壁的散射减小到有用射束的0.1％，大大减少了散射辐射；放射源的升降通过智能控制器控制，有效地控制了其它源对在用源的影响；本实用新型可配备不同核素和不同活度的放射源7个，具有利用价值高、使用方便、量程范围宽的优点。本实用新型操作安全、可靠，校准结果准确。

主权项

一种多源γ校准装置，包括贮源容器和限束光阑准直器（3），其特征在于：所述的校准装置的贮源容器由下屏蔽体（7）、中屏蔽体（6）和贮源转盘（5）构成，贮源转盘（5）位于贮源容器的中心，下屏蔽体（7）与中屏蔽体（6）用螺栓连接定位；上屏蔽体（1）通过螺栓与贮源容器连接构成整体，固定在支架（11）上；上屏蔽体（1）的上部具有凹腔，铅塞（15）置于凹腔中，在凹腔的下部具有凸台；所述的校准装置设有照射室（2）和智能控制器（14）；照射室（2）设置在上屏蔽体（1）的下部；源导向管（4）的上部穿过照射室（2）插入上屏蔽体（1）的凹腔凸台中，与铅塞（15）接触，下部与中屏蔽体（6）连接；在屏蔽体（7）的下部装有换源电机（8）和升降源电机（10）；智能控制器（14）通过升降源电机电缆（12）和换源电机电缆（13）分别与升降源电机（10）和换源电机（8）连接。