[实用新型]一种化学机械研磨设备有效
| 申请号： | 201020673640.6 | 申请日： | 2010-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN201913543U | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 蒋莉;黎铭琦 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种化学机械研磨设备，用于研磨晶圆，包括：转台，其上方固定放置所述晶圆，所述晶圆的待研磨面朝上；研磨垫，其研磨面朝下；研磨头，其下方固定所述研磨垫，能够带动所述研磨垫旋转；研磨液供应管，设置于研磨头或研磨垫上。本实用新型所述化学机械研磨设备在研磨过程中，研磨垫位于晶圆上方，且研磨液供应管设置于所述研磨头或研磨垫上，从而保证研磨液直接充分地落在晶圆上方，提高研磨液的利用率，提高晶圆的均匀性和一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械 研磨 设备 | ||
【主权项】：
一种化学机械研磨设备，用于研磨晶圆，其特征在于，包括：转台，其上方固定放置所述晶圆，所述晶圆的待研磨面朝上；研磨垫，其研磨面朝下；研磨头，其下方固定所述研磨垫，能够带动所述研磨垫旋转；研磨液供应管，设置于研磨头或研磨垫上。
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