[实用新型]一种金属有机化学气相沉积反应器喷淋装置无效
申请号: | 201020679321.6 | 申请日: | 2010-12-24 |
公开(公告)号: | CN201942747U | 公开(公告)日: | 2011-08-24 |
发明(设计)人: | 李顺军;雷青松;薛俊明;安会静;张金娟 | 申请(专利权)人: | 河北汉盛光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 衡水市盛博专利事务所 13119 | 代理人: | 李志华 |
地址: | 053000 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型属于喷淋装置技术领域,公开了一种金属有机化学气相沉积反应器喷淋装置。其主要技术特征为:包括壳体,所述的壳体分为下气室和上气室,下气室设置有下输气管和下出气管,上气室设置有上输气管和套在下出气管外的上出气管。本实用新型所提供的一种金属有机化学气相沉积反应器喷淋装置使用时,将水蒸气通过上输气管送至上气室,水蒸气经喇叭形送气口在上气室扩散开并由上出气管进入反应腔室。同时将Zn(C2H5)2气体通过下输气管送至下气室,Zn(C2H5)2气体经喇叭形送气口在下气室扩散开并由下出气管进入反应腔室。水蒸气和Zn(C2H5)2气体在反应腔室快速混合与反应,两者接触充分,提高了反应气源的利用率,节省原材料,沉积成膜均匀。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 有机化学 沉积 反应器 喷淋 装置 | ||
【主权项】:
一种金属有机化学气相沉积反应器喷淋装置,包括壳体,其特征在于:所述的壳体分为下气室和上气室,下气室设置有下输气管和下出气管,上气室设置有上输气管和套在下出气管外的上出气管。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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