[实用新型]低压化学气相沉积反应设备

摘要

本实用新型公开了一种低压化学气相沉积反应设备，具有前门和后门，包括预热室和反应室，所述预热室内具有加热装置，所述预热室和反应室之间具有阀门；所述反应室中包括复数个纵向、间隔排列的加热板和喷淋室，所述喷淋室侧壁具有喷淋孔；所述低压化学气相沉积反应设备还包括中空载片架，载片架两侧可分别安装基板；当所述载片架通过牵引装置由所述前门进入预热室，再通过所述阀门进入反应室后，所述载片架包住所述加热板，所述喷淋室侧壁上的喷淋孔流出的反应气体在喷淋室两侧的基板表面沉积膜层。本实用新型的LPCVD反应设备能够进一步提高生产效率并降低生产和维护成本。

主权项

一种低压化学气相沉积反应设备，具有前门和后门，其特征在于：包括预热室和反应室，所述预热室内具有加热装置，所述预热室和反应室之间具有阀门；所述反应室中包括复数个纵向、间隔排列的加热板和喷淋室，所述喷淋室侧壁具有喷淋孔；所述低压化学气相沉积反应设备还包括中空载片架，载片架两侧可分别安装基板；当所述载片架通过牵引装置由所述前门进入预热室，再通过所述阀门进入反应室后，所述载片架包住所述加热板，所述喷淋室侧壁上的喷淋孔流出的反应气体在喷淋室两侧的基板表面沉积膜层。