[实用新型]晶片清洗自动脱水机无效
申请号: | 201020686947.X | 申请日: | 2010-12-29 |
公开(公告)号: | CN202024573U | 公开(公告)日: | 2011-11-02 |
发明(设计)人: | 任先林;刘杰 | 申请(专利权)人: | 常州松晶电子有限公司 |
主分类号: | F26B5/08 | 分类号: | F26B5/08;F26B25/02 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 何学成 |
地址: | 213034 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型属于晶片处理设备领域,尤其是一种晶片在清洗完成后进行脱水的晶片清洗自动脱水机。它包括机箱,机箱内设有驱动机构,一电源开关以及时间继电器与驱动机构连接并控制其工作,机箱内还设有转盘与驱动机构连接,转盘上设有若干网篮,机箱侧面设有用于排水的放水管。本实用新型的有益效果是杜绝了无水乙醇脱水的安全隐患,提高了晶片清洗的质量和烘干效率。 | ||
搜索关键词: | 晶片 清洗 自动 脱水机 | ||
【主权项】:
晶片清洗自动脱水机,其特征在于:它包括机箱,机箱内设有驱动机构,一电源开关以及时间继电器与驱动机构连接并控制其工作,机箱内还设有转盘与驱动机构连接,转盘上设有若干网篮,机箱侧面设有用于排水的放水管。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州松晶电子有限公司,未经常州松晶电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201020686947.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种金属粉末激光快速成形温度场的检测系统
- 下一篇:挤出机用电磁加热保温装置