[实用新型]一种平面矩形磁控溅射靶装置有效
| 申请号： | 201020692008.6 | 申请日： | 2010-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN201924073U | 公开（公告）日： | 2011-08-10 |
| 发明（设计）人： | 邢丽芬;李兆廷 | 申请（专利权）人： | 河北东旭投资集团有限公司;成都泰轶斯太阳能科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市智科友专利商标事务所 44241 | 代理人： | 曲家彬 |
| 地址： | 050021 *** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 一种平面矩形磁控溅射靶装置，上述装置的结构中包括：导磁基板、定位在导磁基板上、借助PVC隔板隔开的外围磁钢和内磁钢，以及在外围磁钢和内磁钢的上端面依次设置的铜背板和靶材，关键是：所述的外围磁钢的两个端头设置为圆弧状，在PVC隔板上增设连接在外围磁钢与内磁钢之间的导磁片。本实用新型的有益效果是：增强了靶表面的磁场均匀性，消除了“端部效应”，提高了溅射沟道深度的均匀性，消除端部拐弯处刻蚀严重的现象，增加了靶面横向刻蚀区域的宽度，相对延长了靶的寿命，使得靶材的一次利用率提高30％左右。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平面 矩形 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
一种平面矩形磁控溅射靶装置，上述装置的结构中包括：导磁基板(8)、定位在导磁基板(8)上、借助PVC隔板(5)隔开的外围磁钢(1)和内磁钢(3)，以及在外围磁钢(1)和内磁钢(3)的上端面依次设置的铜背板(7)和靶材(6)，其特征在于：所述的外围磁钢(1)的两个端头设置为圆弧状。
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