[实用新型]用于二沉池的紫外消毒装置及二沉池消毒系统有效

专利信息
申请号: 201020697414.1 申请日: 2010-12-31
公开(公告)号: CN201971656U 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 王培;霍洪谊;温源 申请(专利权)人: 上海广茂达光艺科技股份有限公司
主分类号: C02F1/32 分类号: C02F1/32
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 薛琦;朱水平
地址: 200233 上海市徐*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种用于二沉池的紫外消毒装置和二沉池消毒系统。该用于二沉池的紫外消毒装置包括:至少一消毒模组,该消毒模组包括至少一块电路板,所述电路板上设有若干紫外LED发光元件,所述紫外LED发光元件发射的波长范围为250nm-270nm;以及一罩设在该消毒模组外的灯罩。本实用新型中的用于二沉池的紫外消毒装置采用LED发光元件替代现有技术中的低压汞灯,消除了低压汞灯的可能造成水体污染的安全隐患。本实用新型中的二沉池消毒系统,有效地将紫外消毒装置与二沉池整合在一起,节省了水体消毒系统的占地空间和建造成本,使传统的二沉池具备了杀菌功能。
搜索关键词: 用于 二沉池 紫外 消毒 装置 系统
【主权项】:
一种用于二沉池的紫外消毒装置,其特征在于,其包括:至少一消毒模组,该消毒模组包括至少一块电路板,所述电路板上设有若干紫外LED发光元件,所述紫外LED发光元件发射的波长范围为250nm 270nm;以及一罩设在该消毒模组外的灯罩。
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