[实用新型]真空处理系统有效

专利信息
申请号: 201020698827.1 申请日: 2010-12-20
公开(公告)号: CN201966237U 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: 胡兵;吴红星 申请(专利权)人: 理想能源设备有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 张静洁;徐雯琼
地址: 英属维京群岛托*** 国省代码: 维尔京群岛;VG
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摘要: 实用新型公开了一种真空处理系统,用于生产薄膜太阳能电池,其包含传输腔,以及设置在所述传输腔周围且与该传输腔连接的加载卸载腔和若干处理腔;其中,所述的传输腔的侧壁上设置有若干维护入口。所述维护入口设置在加载卸载腔与处理腔之间的所述侧壁上,或者设置在处理腔与处理腔之间的所述侧壁上,或者设置在加载卸载腔与加载卸载腔之间的所述侧壁上。本实用新型所提供的真空处理系统,可方便对系统内部进行维护工作。
搜索关键词: 真空 处理 系统
【主权项】:
一种用于处理衬底的真空处理系统,其包含传输腔(21),以及设置在所述传输腔(21)周围并与所述传输腔(21)连接的加载卸载腔(22)和处理腔(23);其特征在于,所述传输腔(21)上设置有维护入口(24)。
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