[发明专利]制造微透镜阵列的装置和方法有效

专利信息
申请号: 201080001282.7 申请日: 2010-06-03
公开(公告)号: CN102186659A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 李韩燮;朴炳国;梁利瑟;崔基运;李俊护;朴基护;梁会昌 申请(专利权)人: 仁荷大学校产学协力团
主分类号: B29D11/00 分类号: B29D11/00;B29C51/36
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 褚海英;王维玉
地址: 韩国仁*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种用于制造微透镜阵列的装置,其中通过调节真空室内的真空度而形成微透镜阵列,可以很容易地制造具有各种标准的透镜。所述装置包括:真空室,其中包括真空空间;真空单元,其用于在所述真空室内形成真空;上架,其设置于所述真空室内,且所述上架的下表面安装有基板;升降机,其用于升降所述上架;下架,其设置于所述上架下方;靠模样板,其设置于所述下架上,并且在所述靠模样板的上表面上包括多个模压槽;以及加热器,其安装于所述靠模样板的一侧,用于加热所述靠模样板。
搜索关键词: 制造 透镜 阵列 装置 方法
【主权项】:
一种用于制造微透镜阵列的装置,该装置包括:真空室,其中包括真空空间;真空单元,其用于在所述真空室内形成真空;上架,其设置于所述真空室内,且在所述上架的下表面安装有基板;升降机,其用于升降所述上架;下架,其设置于所述上架下方;靠模样板,其设置于所述下架上,并且在所述靠模样板的上表面上包括多个模压槽;以及加热器,其安装于所述靠模样板的一侧,以加热所述靠模样板。
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