[发明专利]光致抗蚀剂剥离剂组合物以及光致抗蚀剂剥离方法有效
| 申请号： | 201080002286.7 | 申请日： | 2010-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN102124414A | 公开（公告）日： | 2011-07-13 |
| 发明（设计）人： | 安江秀国 | 申请（专利权）人： | 长瀬化成株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光致抗蚀剂剥离剂组合物以及使用该组合物的光致抗蚀剂剥离方法，所述光致抗蚀剂剥离剂组合物在半导体基板和FPD基板的铜或铜合金布线制造工艺中，能够在不含有苯并三唑类和含硫羟基化合物的情况下，不腐蚀铜或铜合金布线地剥离抗蚀剂。本发明的光致抗蚀剂剥离剂组合物中，链烷醇胺的含量为1～50重量％，水溶性有机溶剂的含量为10～88.998重量％，水的含量为10～88.998重量％，并且，水溶性有机溶剂和水的总含量为49.998～98.998重量％，作为铜或铜合金的防蚀剂的胞嘧啶和/或肌酸酐的含量为0.002～1.0重量％。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 剥离 组合 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种光致抗蚀剂剥离剂组合物，其特征在于，该组合物含有抗蚀剂剥离剂，并且含有胞嘧啶和/或肌酸酐作为铜或铜合金的防蚀剂。
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