[发明专利]有机半导体元件遮光膜形成用油墨组合物、遮光膜形成方法以及具有遮光膜的有机晶体管元件有效

专利信息
申请号: 201080003192.1 申请日: 2010-04-26
公开(公告)号: CN102217076A 公开(公告)日: 2011-10-12
发明(设计)人: 饵取秀树;五十住宏;笠井正纪 申请(专利权)人: DIC株式会社
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;C09D11/02;H01L51/05
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种通过凸版反转印刷法、微接触印刷法而形成精密图案化的遮光膜时,可以稳定地形成精密图案,且可以在基板耐热温度以下进行烧成,并可以赋予遮光性和机械强度的有机半导体元件遮光膜形成用油墨组合物。一种有机半导体元件遮光膜形成用油墨组合物,其特征在于,所述组合物包括黑色颜料、树脂成分、表面能调节剂、速干性有机溶剂、慢干性有机溶剂以及脱模剂,其中,该树脂成分含有在200℃以下为固体状态的固态树脂、和在10~50℃为液体状态的液态树脂,且固态树脂/液态树脂的比率为0.2~0.6。
搜索关键词: 有机半导体 元件 遮光 形成 油墨 组合 方法 以及 具有 有机 晶体管
【主权项】:
一种有机半导体元件遮光膜形成用油墨组合物,其特征在于,所述有机半导体元件遮光膜形成用组合物包括黑色颜料、树脂成分、表面能调节剂、20℃时的蒸汽压为11.3×102Pa(8.0mmHg)以上且1个大气压下的沸点小于115℃的速干性有机溶剂、20℃时的蒸汽压小于11.3×102Pa(8.0mmHg)且1个大气压下的沸点为115℃以上的慢干性有机溶剂、以及脱模剂,其中该树脂成分含有在200℃以下为固体状态的固态树脂、和在10~50℃为液体状态的液态树脂,且固态树脂/液态树脂的比率为0.2~0.6。
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