[发明专利]包含含有卤素取代基的光反应性官能团的降冰片烯聚合物、该聚合物的制备方法、和使用该聚合物的取向层

摘要

本发明涉及一种光反应性降冰片烯聚合物、该聚合物的制备方法、和使用该聚合物的取向层，其中所述光反应性降冰片烯聚合物包含具有卤素取代基团、特别是氟取代基团的光反应性官能团，从而使取向层内产生组分梯度而提高取向率、取向性和粘合性。

主权项

1.一种包括化学式1所代表的降冰片烯单体的光反应性降冰片烯聚合物：在所述化学式1中，p是0至4的整数；和R₁、R₂、R₃和R₄中的至少一个为选自化学式1a所代表的基团和化学式1b所代表的基团的基团；它们的剩余部分是相同的或彼此不同的并且独立地选自氢；卤素；直链的或支化的未取代的或由一个或多个选自以下的取代基基团取代的C₁-C₂₀烷基基团：卤素、烷基、烯基、炔基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、芳基、卤代芳基、芳烷基、卤代芳烷基、烷氧基、卤代烷氧基、羰氧基、卤代羰氧基、芳氧基、卤代芳氧基、甲硅烷基和甲硅烷氧基；直链的或支化的未取代的或由一个或多个选自以下的取代基基团取代的C₂-C₂₀烯基基团：卤素、烷基、烯基、炔基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、芳基、卤代芳基、芳烷基、卤代芳烷基、烷氧基、卤代烷氧基、羰氧基、卤代羰氧基、芳氧基、卤代芳氧基、甲硅烷基和甲硅烷氧基；直链的或支化的未取代的或由一个或多个选自以下的取代基基团取代的C₂-C₂₀炔基基团：卤素、烷基、烯基、炔基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、芳基、卤代芳基、芳烷基、卤代芳烷基、烷氧基、卤代烷氧基、羰氧基、卤代羰氧基、芳氧基、卤代芳氧基、甲硅烷基和甲硅烷氧基；未取代的或由一个或多个选自以下的取代基基团取代的C₃-C₁₂环烷基基团：卤素、烷基、烯基、炔基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、芳基、卤代芳基、芳烷基、卤代芳烷基、烷氧基、卤代烷氧基、羰氧基、卤代羰氧基、芳氧基、卤代芳氧基、甲硅烷基和甲硅烷氧基；未取代的或由一个或多个选自以下的取代基基团取代的C₆-C₄₀芳基基团：卤素、烷基、烯基、炔基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、芳基、卤代芳基、芳烷基、卤代芳烷基、烷氧基、卤代烷氧基、羰氧基、卤代羰氧基、芳氧基、卤代芳氧基、甲硅烷基和甲硅烷氧基；和包含氧、氮、磷、硫、硅和硼中的至少一个的极性基团；和当所述R₁、R₂、R₃和R₄均不为氢、卤素或极性基团时，R₁和R₂二者或R₃和R₄二者可彼此连接形成C₁-C₁₀亚烷基基团，或R₁或R₂可连接R₃和R₄中的一个而形成饱和的或不饱和的C₄-C₁₂脂肪环或C₆-C₂₄芳香环；和在所述化学式1a和1b中，A是直连键、-O-、-S-或-NH-；和B选自直连键、取代的或未取代的C₁-C₂₀亚烷基、羰基、羧基、酯、取代的或未取代的C₆-C₄₀亚芳基，和取代的或未取代的C₆-C₄₀亚杂芳基；和X为-O-或-S-；和R₉选自直连键、取代的或未取代的C₁-C₂₀亚烷基、取代的或未取代的C₂-C₂₀亚烯基、取代的或未取代的C₃-C₁₂亚环烷基、取代的或未取代的C₆-C₄₀亚芳基、取代的或未取代的C₇-C₁₅亚芳基烷基、取代的或未取代的C₂-C₂₀亚炔基；和R₁₀、R₁₁、R₁₂、R₁₃和R₁₄中的至少一个为卤素或卤素取代的C₁-C₂₀烷基；它们的剩余部分为相同的或彼此不同的并且独立选自取代的或未取代的C₁-C₂₀烷基、取代的或未取代的C₁-C₂₀烷氧基、取代的或未取代的C₆-C₃₀芳氧基、取代的或未取代的C₆-C₄₀芳基、包含14族、15族或16族的杂原子的C₆-C₄₀杂芳基、取代的或未取代的C₆-C₄₀烷氧芳基。