[发明专利]多层的化学机械平面化垫体

摘要

本发明关于一种化学机械平面化垫体(chemical mechanical planarization pad)以及一种制造及使用一化学机械平面化垫体的方法。该化学机械平面化垫体可包含一第一组成部分，该第一组成部分包含一水溶性成分(water soluble composition)及一水不溶性成分(water insoluble composition)，该水不溶性成分于水中表现出一小于该水溶性成分的溶解度，其中该第一组成部分的该水溶性成分与该水不溶性成分至少一者由纤维形成。该化学机械平面化垫体亦可包含一第二组成部分，其中该第一组成部分于该第二组成部分的一连续相(continuous phase)中呈现一离散相(discrete phase)。

主权项

一种化学机械平面化垫体，包含：一第一组成部分，包含一水溶性成分及一水不溶性成分，该水不溶性成分于水中表现出一小于该水溶性成分的溶解度，且该第一组成部分的该水溶性成分与该水不溶性成分的至少其中之一由纤维形成；以及一第二组成部分，其中该第一组成部分于该第二组成部分的一连续中呈现一离散相，且该水溶性成分于溶解时提供孔隙，这些孔隙具有10纳米至200微米的一尺寸。