[发明专利]成像元件以及使用该成像元件的成像设备有效
| 申请号： | 201080005436.X | 申请日： | 2010-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN102318349B | 公开（公告）日： | 2014-12-17 |
| 发明（设计）人： | 笠原亮介;平井秀明 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | H04N9/07 | 分类号： | H04N9/07;G02B5/18;G02B5/20;G02B5/30;H01L27/14;H04N5/238;H04N101/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 黄小临 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种成像元件，包括具有像素的光接收面，以及配置为将预定光聚焦在光接收面的像素的预定像素上的低通滤波器装置。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 元件 以及 使用 设备 | ||
【主权项】：
一种成像元件，包括光接收面，具有像素；低通滤波器装置，配置为将预定光聚焦在所述光接收面的像素的预定像素上；其中，所述低通滤波器装置配置为在聚焦所述预定光时提取所述预定光的波长分量，并允许所述光接收面的像素接收具有与所述预定光的波长分量不同的波长分量的光；所述成像元件的像素被划分为多个周期，每个周期都具有异常像素；并且所述低通滤波器装置具有LPF特性，以使得聚焦在配置为提取预定波长分量的异常像素上的光束的光量大于聚焦在进入所述成像元件的像素的一个周期之内的与所述异常像素相邻的像素上的预定波长分量的光束的平均光量。
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