[发明专利]Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体受光元件、制作Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体受光元件的方法、受光元件及外延晶片有效

专利信息
申请号: 201080005491.9 申请日: 2010-07-21
公开(公告)号: CN102292833A 公开(公告)日: 2011-12-21
发明(设计)人: 秋田胜史;石塚贵司;藤井慧;永井阳一 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: H01L31/10 分类号: H01L31/10
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 苏卉;车文
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种III-V族化合物半导体受光元件,其具有含有含Sb作为V族构成元素的III-V化合物半导体层的受光层及n型InP窗层,且可减少暗电流。由于受光层(21)的GaAsSb层成长时所供给的锑的记忆效应,所以成长在受光层(21)上的InP层(23)中含有锑作为杂质。在III-V族化合物半导体受光元件(11)中,InP层(23)含有锑作为杂质,并且在InP层(23)中添加有硅作为n型掺杂剂。虽然InP层(23)中的锑杂质以生成空穴的方式作用,但添加至InP层(23)中的硅补偿该生成载体,从而InP层(23)的第二部分(23d)表现充分的n导电性。
搜索关键词: 化合物 半导体 元件 制作 方法 外延 晶片
【主权项】:
一种III‑V族化合物半导体受光元件,其特征在于,具备:半导体衬底,具有主面;受光层,设置在上述半导体衬底的上述主面上;InP层,设置在上述受光层上,具有第一及第二部分;及阳极区域,包含自上述InP层的上述第一部分的表面朝上述受光层的方向延伸的p型半导体,上述受光层的带隙小于InP的带隙,上述InP层中添加有n型掺杂剂,上述InP层的上述第二部分中的多数载体为电子,上述InP层的上述第二部分中的电子浓度为1×1016cm‑3以上。
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