[发明专利]Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体受光元件、制作Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体受光元件的方法、受光元件及外延晶片有效
申请号: | 201080005491.9 | 申请日: | 2010-07-21 |
公开(公告)号: | CN102292833A | 公开(公告)日: | 2011-12-21 |
发明(设计)人: | 秋田胜史;石塚贵司;藤井慧;永井阳一 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | H01L31/10 | 分类号: | H01L31/10 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 苏卉;车文 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种III-V族化合物半导体受光元件,其具有含有含Sb作为V族构成元素的III-V化合物半导体层的受光层及n型InP窗层,且可减少暗电流。由于受光层(21)的GaAsSb层成长时所供给的锑的记忆效应,所以成长在受光层(21)上的InP层(23)中含有锑作为杂质。在III-V族化合物半导体受光元件(11)中,InP层(23)含有锑作为杂质,并且在InP层(23)中添加有硅作为n型掺杂剂。虽然InP层(23)中的锑杂质以生成空穴的方式作用,但添加至InP层(23)中的硅补偿该生成载体,从而InP层(23)的第二部分(23d)表现充分的n导电性。 | ||
搜索关键词: | 化合物 半导体 元件 制作 方法 外延 晶片 | ||
【主权项】:
一种III‑V族化合物半导体受光元件,其特征在于,具备:半导体衬底,具有主面;受光层,设置在上述半导体衬底的上述主面上;InP层,设置在上述受光层上,具有第一及第二部分;及阳极区域,包含自上述InP层的上述第一部分的表面朝上述受光层的方向延伸的p型半导体,上述受光层的带隙小于InP的带隙,上述InP层中添加有n型掺杂剂,上述InP层的上述第二部分中的多数载体为电子,上述InP层的上述第二部分中的电子浓度为1×1016cm‑3以上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的