[发明专利]光生伏打模块和制造具有级联半导体层堆叠的光生伏打模块的方法无效
申请号: | 201080005851.5 | 申请日: | 2010-06-08 |
公开(公告)号: | CN102301490A | 公开(公告)日: | 2011-12-28 |
发明(设计)人: | K·考克力;G·哈森;J·斯特芬斯;K·吉罗特拉;S·罗森哈尔 | 申请(专利权)人: | 薄膜硅公司 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 王莉莉 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供了一种单片集成光生伏打模块。该模块包括绝缘衬底和位于衬底之上的下电极。该模块还包括:下电极之上的微晶硅层的下堆叠;下堆叠之上的非晶硅层的上堆叠;以及上堆叠之上的上电极。硅层的上堆叠和下堆叠具有不同的能带隙。该模块还包括在硅层的下堆叠和上堆叠中从下电极到上电极垂直延伸的内置旁路二极管。该内置旁路二极管包括下堆叠和上堆叠的多个部分,该多个部分的结晶比例大于下堆叠和上堆叠的其余部分的结晶比例。 | ||
搜索关键词: | 光生伏打 模块 制造 具有 级联 半导体 堆叠 方法 | ||
【主权项】:
一种单片集成光生伏打模块,包括:绝缘衬底;位于衬底之上的下电极;位于下电极之上的微晶硅层的下堆叠;位于微晶硅层的下堆叠之上的非晶硅层的上堆叠,上堆叠和下堆叠具有不同的能带隙;位于非晶硅层的上堆叠之上的上电极;以及在微晶硅层的下堆叠和非晶硅层的上堆叠中从下电极到上电极垂直延伸的内置旁路二极管,所述内置旁路二极管包括微晶硅层的下堆叠和非晶硅层的上堆叠的多个部分,该多个部分的结晶比例大于微晶硅层的下堆叠和非晶硅层的上堆叠的其余部分的结晶比例。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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