[发明专利]易粘接聚酰胺膜及其制造方法无效
| 申请号： | 201080005890.5 | 申请日： | 2010-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN102300710A | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | 大葛贵良;桑田秀树 | 申请（专利权）人： | 尤尼吉可株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/34 | 分类号： | B32B27/34;B29C55/12;B32B27/40;B29K77/00;B29L9/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;陈剑华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种易粘接聚酰胺膜，具备基材聚酰胺膜、及在该基材聚酰胺膜的至少一面形成的含有阴离子型水分散性聚氨酯树脂的底漆层。底漆层的厚度为0.025μm～0.250μm。阴离子型水分散性聚氨酯树脂的皮膜伸长率为250％以上，并且抗张强度为20MPa以上。对易粘接聚酰胺膜在氦气气氛下于200℃进行10分钟热处理时，从该易粘接聚酰胺膜产生的挥发性碱成分的总量为0.50μg/g以下。 | ||
| 搜索关键词： | 易粘接 聚酰胺 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种易粘接聚酰胺膜，其特征在于，具备基材聚酰胺膜、及在该基材聚酰胺膜的至少一面形成的含有阴离子型水分散性聚氨酯树脂的底漆层；所述底漆层的厚度为0.025μm～0.250μm；所述阴离子型水分散性聚氨酯树脂的皮膜伸长率为250％以上，并且其抗张强度为20MPa以上；对所述易粘接聚酰胺膜在氦气气氛下于200℃进行10分钟热处理时，从所述易粘接聚酰胺膜产生的挥发性碱成分的总量为0.50μg/g以下。
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