[发明专利]包括场发射阴极的X射线源无效
| 申请号： | 201080006087.3 | 申请日： | 2010-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN102301444A | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | 胡秋红 | 申请（专利权）人： | 光实验室瑞典股份公司 |
| 主分类号： | H01J35/06 | 分类号： | H01J35/06;H01J35/14 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 周靖;郑霞 |
| 地址： | 瑞典萨尔*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
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| 摘要： | 本发明涉及x射线源，其包括场发射阴极、阳极、连接件和真空室，连接件用于允许在阴极和阳极之间施加高电压，以使能够发射x射线束，阳极和阴极布置在真空室内部，真空室具有x-射线透明窗，其中场发射阴极由具有连续的微孔结构的碳化的固态化合物泡沫组成，当施加高电压时，连续的微孔结构提供用于在阳极方向发射电子的多个发射位置。场发射阴极提供提高x射线系统的效率的可能性，因为其可以在切换时间、电流、动能和发射方向方面以非常高的程度控制由场发射阴极发射的电子。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 发射 阴极 射线 | ||
【主权项】：
一种x射线源，包括：‑场发射阴极；‑阳极；‑连接件，其用于允许在所述阴极和所述阳极之间施加高电压，以使能够发射x射线束，以及‑真空室，所述阳极和所述阴极布置在所述真空室内部；其特征在于所述场发射阴极由具有连续的微孔结构的碳化的固态化合物泡沫组成，当施加高电压时，所述连续的微孔结构提供用于在所述阳极方向发射电子的多个发射位置。
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