[发明专利]微浮雕结构有效

专利信息
申请号: 201080007141.6 申请日: 2010-02-08
公开(公告)号: CN102307719A 公开(公告)日: 2012-01-04
发明(设计)人: 尹戈尔·杰拉莫拉杰夫;利波尔·科塔克卡;托马斯·特塔尔;罗伯特·德沃拉克 申请(专利权)人: 奥普泰格立奥有限公司
主分类号: B32B3/30 分类号: B32B3/30;B42D15/10
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 吴孟秋;梁韬
地址: 捷克莱克*** 国省代码: 捷克;CZ
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摘要: 发明提供了一种形成作为分层结构体一部分的浮雕图案的方法,包括在所述结构体的一层的表面上形成浮雕图案,随后在所述浮雕图案的至少一部分上形成保护固定层,用于在所述结构体的任何后续加工中保护下面的浮雕图案;由此也提供了一种分层结构体,通常包括表面形成有浮雕图案的基板,其中,所述浮雕的至少一部分设置有保护固定层,用于在该结构体的任何后续加工中,例如在形成设置有浮雕图像的层压结构体时,保持浮雕的特征。
搜索关键词: 浮雕 结构
【主权项】:
一种形成作为分层结构体的一部分的浮雕图案的方法,包括:在所述结构体的一层的表面形成浮雕图案,随后在所述浮雕图案的至少一部分上形成保护固定层,用于在所述结构体的任何后续加工中保护下面的浮雕图案。
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