[发明专利]化学气相沉积系统和工艺有效
| 申请号： | 201080007530.9 | 申请日： | 2010-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN102317500A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 艾伦·维克托·亚科皮 | 申请（专利权）人： | 格里菲斯大学 |
| 主分类号： | C23C16/32 | 分类号： | C23C16/32;C23C16/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有;李翔 |
| 地址： | 澳大利亚*** | 国省代码： | 澳大利亚;AU |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种化学气相沉积系统，所述系统包括：用于容纳至少一个样品的工艺管，所述工艺管由碳化硅构造而成，用硅浸渍并涂布有碳化硅；将所述工艺管抽成高真空的抽吸系统；用于将一种或更多种工艺气体引入到抽空的工艺管中的一个或更多个气体入口；和加热器，以加热工艺管并由此加热工艺管内的所述一种或更多种工艺气体和所述至少一个样品以使材料通过化学气相沉积沉积到工艺管内的所述至少一个样品上。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 系统 工艺 | ||
【主权项】：
一种化学气相沉积系统，所述系统包括：用于容纳至少一个样品的工艺管，所述工艺管由碳化硅构造而成、用硅浸渍并涂布有碳化硅；将所述工艺管抽成高真空的抽吸系统；用于将一种或更多种工艺气体引入到抽空的工艺管中的一个或更多个气体入口；和加热器，以加热所述工艺管并由此加热所述工艺管内的所述一种或更多种工艺气体和所述至少一个样品以通过化学气相沉积使材料沉积到所述工艺管内的所述至少一个样品上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于格里菲斯大学，未经格里菲斯大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080007530.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：纳米鱼脊粉的加工方法
- 下一篇：游戏系统
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
