[发明专利]杂环衍生物无效

专利信息
申请号: 201080007841.5 申请日: 2010-02-10
公开(公告)号: CN102317282A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: 高桥史江;今田直;盐饱雅彦;加藤浩二;深堀英彦 申请(专利权)人: 安斯泰来制药有限公司
主分类号: C07D403/04 分类号: C07D403/04;A61K31/5377;A61K31/541;A61K31/55;A61P1/04;A61P11/06;A61P17/00;A61P17/06;A61P19/02;A61P29/00;A61P35/02;A61P37/02;A61P37/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 卢曼;高旭轶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种各种脏器移植中的排斥反应、变应性疾病、自身免疫疾病和血液肿瘤等的新型且优良的预防或治疗方法,该方法基于PI3Kδ选择性抑制作用和/或IL-2产生抑制作用和/或B细胞增殖抑制作用(包括活化抑制作用)。本发明人发现,三取代三嗪或三取代嘧啶衍生物显示出PI3Kδ选择性抑制作用和/或IL-2产生抑制作用和/或B细胞增殖抑制作用(包括活化抑制作用),可作为各种脏器移植中的排斥反应、变应性疾病(哮喘、特应性皮炎等)、自身免疫疾病(类风湿性关节炎、牛皮癣、溃疡性结肠炎、克罗恩病、全身性红斑狼疮等)或血液肿瘤(白血病等)等的预防或治疗剂,从而完成了本发明。
搜索关键词: 衍生物
【主权项】:
1.式(I)的化合物或其盐;式中,A1、A2及A3:相同或彼此不同,为CH或N,其中A1~A3中的两个以上为N;W:NH或O;R1R2:相同或彼此不同,为H或者可被卤素或-OH取代的低级烷基;R3:相同或彼此不同,为H或卤素;B1:键或C1-4亚烷基;B2:键或C1-4亚烷基;B3:O、S或NR0;B4:CR12或N;R0:相同或彼此不同,为H或低级烷基;R10:H;低级烷基,这里的所述低级烷基可被卤素、-C(O)O-低级烷基、-OH或-O-低级烷基取代;低级烯基;低级炔基;-低级亚烷基-苯基,这里的所述苯基可被-O-低级烷基取代;-低级亚烷基-O-低级亚烷基-苯基;R11:H、R100、-C(O)R101、-C(O)OR102、-C(O)NR103R104或-S(O)2R105;或者R10及R11与它们所结合的N一起形成含有1~4个选自O、S和N的杂原子的三~八元的单环杂环基,该单环杂环可被下述基团取代:可被卤素或OH或-O-低级烷基或杂环取代的低级烷基、氧代基、-C(O)O-低级烷基、N(R0)2、卤素、-CN、-OH、-O-低级烷基、-O-C(O)-低级烷基、-O-低级亚烷基-苯基或杂环基;R12:R0或氨基;R100:低级烷基,这里的所述低级烷基可被选自下述基团的基团取代:卤素、-C(O)N(R0)2、-C(O)O-低级烷基、-CN、-OH、-O-低级烷基、-O-低级亚烷基-苯基、-NHC(O)O-低级亚烷基-苯基及-S(O)2-低级烷基;低级烯基;低级炔基;-X-环烷基,这里的所述环烷基可被选自下述基团的基团取代:低级烷基、苯基、-低级亚烷基-O-低级烷基、-O-低级烷基及-低级亚烷基-苯基,这里的所述苯基可被-O-低级烷基取代;-X-芳基,这里的所述芳基可被选自下述基团的基团取代:低级烷基、卤素、卤代低级烷基、苯基、-CN、-OH、-O-低级烷基、-O-卤代低级烷基、-O-低级亚烷基-OH、-O-低级亚烷基-苯基、-S(O)2-低级烷基、-N(R0)2、吡咯烷基、可被OH取代的哌啶基、吗啉基及三唑基;或-X-杂环基,这里的所述杂环基可被选自下述基团的基团取代:低级烷基、卤素、卤代低级烷基、苯基、吗啉基、-C(O)O-低级亚烷基-苯基、-OH、-低级亚烷基-苯基及-低级亚烷基-OH;R101:低级烷基,这里的所述低级烷基可被选自下述基团的基团取代:卤素,-C(O)N(R0)2,-C(O)-哌嗪基、这里的所述哌嗪基可被-低级亚烷基-OH取代,-CN,-OH,-O-低级烷基,-O-低级亚烷基-苯基,-O-低级亚烷基-O-低级烷基,-O-(可被-CN取代的苯基),-S(O)2-低级烷基,-S(O)2-苯基,-N(R0)2,-N(R0)-低级烷基、这里的所述低级烷基可被-O-低级烷基取代,-NH-苯基,-NHC(O)-低级烷基,-NHC(O)-苯基,-NHC(O)-(可被-OH取代的吡啶基),-N(R0)C(O)O-低级烷基,-NHC(O)O-低级亚烷基-苯基,-NHS(O)2-苯基、这里的所述苯基可被选自低级烷基及卤素的基团取代,以及-NHS(O)2-噻吩基;-X-环烷基,这里的所述环烷基可被选自下述基团的基团取代:苯基、-CN、-OH、-O-低级烷基及-低级亚烷基-OH;-X-苯基,这里的所述苯基可被选自下述基团的基团取代:低级烷基、卤素、卤代低级烷基、-C(O)O-低级烷基、-CN、-OH、-O-低级烷基、-N(R0)2、-N(R0)-低级亚烷基-OH、-N(-低级亚烷基-OH)2、-NHC(O)-低级烷基、-N(R0)C(O)N(R0)2、-S(O)2-低级烷基、-S(O)2N(低级烷基)2、-低级亚烷基-OH、-低级亚烷基-O-低级烷基、-X-哌啶基、-X-吗啉基及-X-(可被低级烷基取代的哌嗪基);-X-杂环基,这里的所述杂环基可被选自下述基团的基团取代:低级烷基、卤素、-OH、卤代低级烷基、苯基、-C(O)O-低级烷基、-C(O)O-低级亚烷基-苯基、-C(O)-(可被-OH取代的吡啶基)、-C(O)-低级烷基、氧代基、-N(R0)2、-N(R0)C(O)O-低级烷基、-S(O)2-苯基、可被低级烷基取代的哌啶基、-X-吡啶基、-低级亚烷基-苯基、-低级亚烷基-OH、-低级亚烷基-O-低级烷基及-低级亚烷基-(可被低级烷基取代的吡唑基);或者-C(O)N(R0)2;R102:低级烷基;R103:H或低级烷基;R104:低级烷基,这里的所述低级烷基可被选自下述基团的基团取代:-CN、-OH、-O-低级烷基或-N(R0)2;-X-苯基,这里的所述苯基可被选自下述基团的基团取代:低级烷基、卤素、卤代低级烷基、-CN、-O-低级烷基、-O-卤代低级烷基及-N(R0)2;或-X-杂环基;或者R103及R104与它们所结合的N一起形成吗啉基;R105:低级烷基,这里的所述低级烷基可被选自下述基团的基团取代:卤素、-O-苯基或杂环基,这里的所述苯基可被-O-低级烷基取代;低级烯基;-X-环烷基;-X-芳基,这里的所述芳基可被选自下述基团的基团取代:低级烷基、卤素、卤代低级烷基、苯基、-C(O)O-低级烷基、-C(O)N(R0)2、-CN、-C(O)-低级烷基、-C(O)-吡啶基、-O-低级烷基、-O-卤代低级烷基、-O-环烷基、-O-苯基、-O-低级亚烷基-CN、-X-NHC(O)-低级烷基、-NHC(O)-吗啉基、-S(O)2-低级烷基、-N(R0)C(O)N(R0)2、-S(O)2N(R0)2及-S(O)2-吗啉基;-X-杂环基,这里的所述杂环基可被选自下述基团的基团取代:低级烷基、卤素、卤代低级烷基、苯基、-C(O)-低级烷基、-C(O)-卤代低级烷基、-C(O)-环烷基、-O-低级烷基、-O-苯基、氧代基、-NHC(O)-低级烷基、吗啉基及异唑基;或者-N(R0)2;X:键或低级亚烷基。
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