[发明专利]氧化硅玻璃坩埚有效
| 申请号： | 201080008270.7 | 申请日： | 2010-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN102325927A | 公开（公告）日： | 2012-01-18 |
| 发明（设计）人： | 须藤俊明;岸弘史 | 申请（专利权）人： | 日本超精石英株式会社 |
| 主分类号： | C30B15/10 | 分类号： | C30B15/10;C03B20/00;C30B29/06 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 翟羽 |
| 地址： | 日本秋田县*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种设置有基准点的单晶硅拉晶用氧化硅玻璃坩埚，藉由该基准点能正确掌握氧化硅玻璃坩埚的缺陷位置，从而可用于特定单晶硅的缺陷发生部位以及查明缺陷发生原因。对于本发明的氧化硅玻璃坩埚，在其坩埚边缘部、内壁面以及外壁面之中的至少一处，设置用以特定与规定部位之间的位置关系的基准点。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 玻璃 坩埚 | ||
【主权项】：
一种氧化硅玻璃坩埚，其包括具有上面开口之边缘部的圆筒形直筒部、研钵状的底部、连接直筒部与底部之角部，其特征在于：该边缘部，该氧化硅玻璃坩埚的内壁面以及外壁面之中的至少一处设置有固定式基准点，该基准点用以特定与规定部位之间的位置关系。
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