[发明专利]可溶于显影剂的酸敏性底部减反射涂料有效
| 申请号： | 201080008975.9 | 申请日： | 2010-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN102395925A | 公开（公告）日： | 2012-03-28 |
| 发明（设计）人： | J·D·米多尔;J·A·洛斯;R-m·L·麦卡多 | 申请（专利权）人： | 布鲁尔科技公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 顾敏 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了可溶于显影剂的酸敏性底部减反射涂料组合物，以及使用这种组合物的方法和由其形成的微电子结构。所述组合物优选包含溶解或分散于溶剂体系的可交联聚合物。所述聚合物优选包含具有金刚烷基的重复单体单元。所述组合物还优选包含与所述聚合物一起分散或溶解于溶剂体系的交联剂，如乙烯基醚交联剂。在一些实施方式中，所述组合物还可包含光致酸发生剂(PAG)和/或猝灭剂。所述都不抗反射涂料组合物可热交联，但在酸存在性可解交联，从而变得可溶于显影剂。 | ||
| 搜索关键词： | 可溶 显影剂 酸敏性 底部 反射 涂料 | ||
【主权项】：
一种形成微电子结构的方法，所述方法包括：(a)提供具有表面的基片；(b)在所述表面上形成减反射层，所述减反射层是用减反射组合物形成的，该组合物包含溶解或分散于溶剂体系的聚合物，所述聚合物包含具有金刚烷基的重复单体单元；和(c)在所述减反射层上施涂光刻胶，形成成像层。
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