[发明专利]非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶有效
| 申请号： | 201080009611.2 | 申请日： | 2010-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN102333905A | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 佐藤敦 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C1/05;C22C19/07 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶，包含合金与非磁性材料粒子的混合体，所述合金含有5摩尔％以上且20摩尔％以下的Cr、5摩尔％以上且30摩尔％以下的Pt、余量为Co，所述溅射靶的特征在于，该靶的组织含有在合金中均匀地微细分散有所述非磁性材料粒子的相(A)以及所述相(A)中的、在靶中所占的体积比率为4％以上且40％以下的球形的合金相(B)。本发明得到提高漏磁通从而通过磁控溅射装置可以获得稳定的放电、并且高密度从而溅射时产生的粉粒少的非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性材料 粒子 分散 溅射 | ||
【主权项】：
一种非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶，包含合金与非磁性材料粒子的混合体，所述合金含有5摩尔％以上且20摩尔％以下的Cr、余量为Co，所述溅射靶的特征在于，该靶的组织含有在合金中均匀地微细分散有所述非磁性材料粒子的相(A)以及所述相(A)中的、在靶中所占的体积比率为4％以上且40％以下的球形的合金相(B)。
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