[发明专利]冷却对流层的方法有效
申请号: | 201080009739.9 | 申请日: | 2010-01-04 |
公开(公告)号: | CN102340985A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 弗朗茨·迪特里希·迈耶-奥斯特 | 申请(专利权)人: | 厄恩斯特·里斯;弗朗茨·迪特里希·迈耶-奥斯特 |
主分类号: | A01G15/00 | 分类号: | A01G15/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 石克虎;林森 |
地址: | 德国霍森菲尔*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种技术方法,用于通过富含含氯化合物和含溴化合物中的至少一种物质来自发启动冷却对流层。用于此目的物质的特征在于下面的至少一种性能:气态,低于500℃呈蒸气态,吸湿,可水解。此外特征在于,用于此目的的物质在根据本发明的方法进程中是通过下面的至少一个步骤来形成的:使用盐水电解形成物质,燃烧方法之外形成物质,在自由对流层中形成物质。 | ||
搜索关键词: | 冷却 对流层 方法 | ||
【主权项】:
用于受控冷却对流层的方法,其中使得对流层富含气溶胶,所述气溶胶至少含有吸湿盐或者盐溶液形式的氯和溴元素的至少之一和铁元素,特征在于将选自含氯和含溴化合物中的至少一种气态或者蒸气态的含卤素物质加入到该对流层中,所述含卤素物质不是在利用氧气或者卤代烃作为氧化剂的燃烧中产生的,其中该含卤素物质的特征在于下面性能的至少一种: 在20℃呈气态, 在低于500℃呈蒸气态, 高于50℃时可测量的蒸气压, 吸湿, 可水解,和该含卤素物质是根据至少一个下面的步骤来形成的: 在使用盐水电解的情况下将该含卤素物质释放到对流层中, 在使用卤素氯和溴与选自下面的物质的至少一种反应的情况下,将该含卤素物质释放到对流层中:金属铁,金属钛,元素硅,铁 硅合金,铁 钛合金,硅 钛合金,元素硫,铁 硫化合物,特别是硫化铁(II)。
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