[发明专利]膜厚测量装置以及测量方法有效
| 申请号： | 201080010049.5 | 申请日： | 2010-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN102341670A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 大塚贤一;中野哲寿;渡边元之 | 申请（专利权）人： | 浜松光子学株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 膜厚测量装置(1A)被构成为具有：测量光源(28)，其将包含第1波长(λ1)的测量光成分及第2波长(λ2)的测量光成分的测量光供给至测量对象物(15)；分光光学系统(30)，其将来自测量对象物(15)的上面的反射光与来自下面的反射光的干涉光，分解成第1波长(λ1)的干涉光成分、及第2波长(λ2)的干涉光成分；光检测器(31、32)，其检测第1、第2干涉光成分各自在各时点的强度；以及膜厚解析部(40)。膜厚解析部(40)基于第1干涉光成分的检测强度的时间变化中的第1相位与第2干涉光成分的检测强度的时间变化中的第2相位的相位差，求得测量对象物(15)的膜厚的时间变化。由此，实现了能够高精度地测量膜状的测量对象物的膜厚的时间变化的膜厚测量装置及膜厚测量方法。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 装置 以及 测量方法 | ||
【主权项】：
一种膜厚测量装置，其特征在于，是测量具有第1面及第2面的膜状的测量对象物的膜厚随时间的变化的膜厚测量装置，具备：测量光源，其将至少包含具有第1波长的第1测量光成分及具有与所述第1波长不同的第2波长的第2测量光成分的测量光，供给至所述测量对象物；分光单元，其对于所述测量光的来自所述测量对象物的所述第1面的反射光、及来自所述第2面的反射光相干涉所形成的干涉光，分解成所述第1波长的第1干涉光成分及所述第2波长的第2干涉光成分；检测单元，其检测所述第1干涉光成分及所述第2干涉光成分各自在各时点的强度；以及膜厚解析单元，其基于所述第1干涉光成分的检测强度的时间变化中的第1相位与所述第2干涉光成分的检测强度的时间变化中的第2相位的相位差，求得所述测量对象物的膜厚随时间的变化。
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