[发明专利]使用了纳米金刚石的化学机械平面化有效
| 申请号： | 201080010089.X | 申请日： | 2010-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN102341473A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | J·王;R·拉康特;A·哈勒 | 申请（专利权）人： | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 郭辉 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： |
一种用于基底的化学机械抛光的方法包括以大于约2.5 |
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| 搜索关键词： | 使用 纳米 金刚石 化学 机械 平面化 | ||
【主权项】：
1.一种用于氮化镓的化学机械抛光浆料，包括：至少约80wt％的水；分散在水中的超分散金刚石(UDD)，该UDD存在的量值是不大于约5wt％；以及一种pH改性剂，其量值对于将该浆料的pH调节到至少约8.0是有效的；其中该化学机械抛光浆料具有不大于约![]()
的GaN表面粗糙度等级。
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