[发明专利]氟系高分子电解质膜有效
| 申请号： | 201080010092.1 | 申请日： | 2010-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN102341944A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 三宅直人;山根三知代 | 申请（专利权）人： | 旭化成电子材料株式会社 |
| 主分类号： | H01M8/02 | 分类号： | H01M8/02;H01B1/06;H01M8/10 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种高温、低加湿下的性能优异、且耐久性也优异的氟系高分子电解质膜。本发明涉及一种氟系高分子电解质膜，其是在微多孔膜的空隙中含有离子交换容量为1.3～3.0毫当量/g的氟系高分子电解质而成的。 | ||
| 搜索关键词： | 高分子 电解 质膜 | ||
【主权项】：
一种氟系高分子电解质膜，其是在微多孔膜的空隙中含有离子交换容量为1.3毫当量/g～3.0毫当量/g的氟系高分子电解质而成的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭化成电子材料株式会社，未经旭化成电子材料株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080010092.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
