[发明专利]用于基材的磁流变抛光的系统有效

专利信息
申请号: 201080010348.9 申请日: 2010-03-02
公开(公告)号: CN102341216A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: W.考登斯基 申请(专利权)人: QED技术国际股份有限公司
主分类号: B24B57/02 分类号: B24B57/02;B24B31/00;B24B37/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 曲莹
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于基材的磁流变抛光的系统。用于承载磁流变抛光流体的球形轮容纳可变磁场永磁体系统,所述可变磁场永磁体系统具有被主间隙和副间隙分开的南北铁磁极片,并在中心贯穿有一圆柱形空腔。在所述空腔中可旋转地设置有沿圆柱轴线的法线磁化的圆柱形永磁体。一致动器允许永磁体旋转至任何角度,该旋转通过磁极片改变磁通量在磁路中的分布。因此,能够通过使永磁体定位在提供所需磁场强度的任何角度,来控制间隙中的磁场强度。因为磁场还经过在轮面外部限定出杂散场的磁极片上方,可变磁场延伸穿过轮上的磁流变流体层,因此改变磁流变流体的硬化,正如抛光控制所期望的。
搜索关键词: 用于 基材 流变 抛光 系统
【主权项】:
一种永磁体系统,用于可控地改变磁场的强度,包括:a)由软磁材料形成的第一和第二磁极片,共同限定出磁体,所述第一和第二磁极片具有形成于它们的相对端部之间的主间隙和副间隙,并且在所述磁体中形成有圆柱形空腔;b)圆柱形永磁体,沿其纵向轴线的法线磁化并可旋转地设置在所述圆柱形空腔中。
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