[发明专利]III族氮化物半导体激光元件、及制作III族氮化物半导体激光元件的方法无效
申请号: | 201080010475.9 | 申请日: | 2010-11-16 |
公开(公告)号: | CN102341977A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 高木慎平;善积祐介;片山浩二;上野昌纪;池上隆俊 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | H01S5/343 | 分类号: | H01S5/343 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 谢丽娜;关兆辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种III族氮化物半导体激光元件,其在六方晶系III族氮化物的c轴向m轴方向倾斜的支持基体的半极性面上,具有可实现低阈值电流的激光谐振器。激光构造体(13)中,第1面(13a)为第2面(13b)的相反侧的面,第1及第2割断面(27、29)从第1面(13a)的边缘(13c)延伸至第2面(13b)的边缘(13d)。而且,在例如第1割断面(27)的一端,具有从边缘(13c)延伸至边缘(13d)的刻划痕(SM1),刻划痕(SM1)等具有从边缘(13c)延伸至边缘(13d)的凹形状。割断面(27、29)并非由干式蚀刻形成,与c面、m面或者a面这些目前为止的裂面不同。可利用能实现低阈值电流的能带跃迁的发光。 | ||
搜索关键词: | iii 氮化物 半导体 激光 元件 制作 方法 | ||
【主权项】:
一种III族氮化物半导体激光元件,其特征在于,包含:激光构造体,该激光构造体包括:由六方晶系III族氮化物半导体构成,且具有半极性主面的支持基体、以及设于上述支持基体的上述半极性主面上的半导体区域;以及电极,该电极设于上述激光构造体的上述半导体区域上,上述半导体区域包括:由第1导电型氮化镓系半导体构成的第1包覆层、由第2导电型氮化镓系半导体构成的第2包覆层、以及设于上述第1包覆层与上述第2包覆层之间的活性层,上述第1包覆层、上述第2包覆层及上述活性层沿着上述半极性主面的法线轴排列,上述活性层包含氮化镓系半导体层,上述支持基体的上述六方晶系III族氮化物半导体的c轴,相对于上述法线轴向上述六方晶系III族氮化物半导体的m轴方向以有限的角度ALPHA倾斜,上述角度ALPHA在45度以上80度以下、或100度以上135度以下的范围,上述激光构造体包含与由上述六方晶系III族氮化物半导体的m轴及上述法线轴规定的m‑n面交叉的第1及第2割断面,该III族氮化物半导体激光元件的激光谐振器包含上述第1及第2割断面,上述激光构造体包含第1及第2面,上述第2面为上述第1面的相反侧的面,上述半导体区域位于上述第1面与上述支持基体之间,上述第1及第2割断面分别从上述第1面的边缘延伸至上述第2面的边缘,上述激光构造体在上述第1割断面的一端,具有从上述第1面的边缘延伸至上述第2面的边缘的刻划痕,上述刻划痕具有从上述第1面的边缘延伸至上述第2面的边缘的凹形状。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友电气工业株式会社,未经住友电气工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080010475.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:工业废水处理装置
- 下一篇:一种水产养殖用微生物制剂及制备方法