[发明专利]盘状记录介质、光斑位置控制装置、光斑位置控制方法无效

专利信息
申请号: 201080011429.0 申请日: 2010-03-09
公开(公告)号: CN102349105A 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: 堀米顺一 申请(专利权)人: 索尼光领公司
主分类号: G11B7/09 分类号: G11B7/09;G11B7/0065;G11B7/007;G11B7/24
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 李晓冬
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及盘状记录介质、光斑位置控制装置、光斑位置控制方法。在通过照射第一光在信息记录层上执行记录和再现并通过对与信息记录层分开设置的位置控制信息记录层照射第二光来控制信息记录层上的记录和再现位置时,可高精度校正由第一和第二光光轴偏离引起的记录和再现位置间偏离。凹坑可形成位置间隔限于预定第一间隔的凹坑列以螺旋或同心状形成并布置在半径方向,凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的间隔设定成偏离预定第二间隔以形成具有多个凹坑列相位的盘状记录介质。从而可在传统轨道宽度中布置多个凹坑列。因此在使用把循轨伺服应用到根据再现位置的校正量而选择的凹坑列的校正方法时,可进行比一个轨道宽度更窄的宽度的高精度校正。
搜索关键词: 记录 介质 光斑 位置 控制 装置 方法
【主权项】:
一种盘状记录介质,包括:多个凹坑列相位,其中,以螺旋状或同心状形成凹坑列,这些凹坑列的一圈凹坑可形成位置之间的间隔受限于预定的第一间隔,在半径方向上排列的凹坑列中,凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的间隔被设定到偏移了预定的第二间隔的位置。
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