[发明专利]固定嵌入部、电极组件和等离子处理室有效
| 申请号： | 201080012058.8 | 申请日： | 2010-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN102356700A | 公开（公告）日： | 2012-02-15 |
| 发明（设计）人： | 兰德尔·哈丁;乔纳森·凯尔;杜安·莱特尔 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H05H1/34 | 分类号： | H05H1/34;H01L21/3065;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/265 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种硅基喷头电极，其中后部嵌入部设置在沿着电极的后部形成的后部凹陷内。后部嵌入部包括螺纹外径、螺纹内径和形成于螺纹内径内的工具啮合部。工具啮合部形成以使该后部嵌入部进一步包括一个或多个位于工具啮合部和螺纹外径之间的侧面防护部以防止与后部嵌入部的工具啮合部啮合的工具延伸超出该嵌入部的螺纹外径。进一步地，后部嵌入部的工具啮合部包括多个沿着后部嵌入部的转轴线布置的转矩接收槽。该转矩接收槽通过相对成对的转矩接收槽避免同轴转动的方式布置。 | ||
| 搜索关键词： | 固定 嵌入 电极 组件 等离子 处理 | ||
【主权项】：
一种硅基喷头电极，其包括后部、前部、多个喷头通道、多个后部凹陷和多个后部嵌入部，其中：所述多个喷头通道从所述硅基喷头电极的所述后部延伸至所述硅基喷头电极的所述前部；所述多个后部凹陷形成于所述硅基喷头电极的所述后部，所述后部凹陷在所述喷头电极的所述凹陷和所述硅基喷头电极的所述前部之间留有一定厚度的硅基电极材料；所述后部嵌入部设置于沿着所述硅基喷头电极的所述后部的所述后部凹陷内；所述后部嵌入部包括螺纹外径、螺纹内径和形成于所述螺纹内径内的工具啮合部；所述后部嵌入部的所述工具啮合部包括绕所述后部嵌入部的转轴线布置的多个转矩接收槽；和所述转矩接收槽布置成通过相对成对的转矩接收槽避免所述后部嵌入部的同轴转动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于朗姆研究公司，未经朗姆研究公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080012058.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
