[发明专利]电子照相光电导体及其生产方法,以及成像装置和处理盒有效
申请号: | 201080012480.3 | 申请日: | 2010-03-17 |
公开(公告)号: | CN102356356A | 公开(公告)日: | 2012-02-15 |
发明(设计)人: | 纸英利;山崎纯一;藤原由贵男;江川和宏 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G03G5/147 | 分类号: | G03G5/147;G03G5/00;G03G9/087 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵蓉民;张全信 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 电子照相光电导体,其具有在载体上的感光层和交联树脂表面层,其中用表面粗糙度/表面轮廓的测量设备测量电子照相光电导体的表面上的凹陷和凸起的形状,以获得一维数据阵列,通过小波变换对所述阵列进行多分辨率分析(MRA-1),以分成六个频率分量,包括HHH、HHL、HMH、HML、HLH和HLL,以获得一维数据阵列,HLL的阵列被稀疏化,以减少到其1/10至1/100,从而产生一维数据阵列,然后其通过小波变换进行多分辨率分析(MRA-2),以分成六个频率分量,包括LHH、LHL、LMH、LML、LLH和LLL,从而总共得到12个频率分量;并且12个频率分量的中心线平均粗糙度(WRa)满足以下关系式(i):1-597×WRa(HML)+238×WRa(HLH)-95×WRa(LHL)+84×WRa(LMH)-79×WRa(LML)+55×WRa(LLH)-17×WRa(LLL)>0---(i)。 | ||
搜索关键词: | 电子 照相 光电 导体 及其 生产 方法 以及 成像 装置 处理 | ||
【主权项】:
一种电子照相光电导体,其包括;载体,感光层,和交联树脂表面层,所述感光层和交联树脂表面层被设置在所述载体上,其中用表面粗糙度/表面轮廓的测量设备测量所述电子照相光电导体的表面上的凹陷和凸起的形状,以获得一维数据阵列,通过小波变换对所述一维数据阵列进行多分辨率分析(MRA‑1),以分成六个频率分量,包括最高频率分量(HHH)、次高频率分量(HHL)、第三高频率分量(HMH)、第四高频率分量(HML)、第五高频率分量(HLH)和最低频率分量(HLL),如此获得的最低频率分量(HLL)的一维数据阵列被稀疏化,使得数据阵列的数量减少到其1/10至1/100,从而产生一维数据阵列,通过小波变换对如此产生的一维数据阵列进行多分辨率分析(MRA‑2),以分成六个频率分量,包括最高频率分量(LHH)、次高频率分量(LHL)、第三高频率分量(LMH)、第四高频率分量(LML)、第五高频率分量(LLH)和最低频率分量(LLL),从而总共得到12个频率分量;并且所述12个频率分量每个的中心线平均粗糙度(WRa)满足以下关系式(i):1‑597×WRa(HML)+238×WRa(HLH)‑95×WRa(LHL)+84×WRa(LMH)‑79×WRa(LML)+55×WRa(LLH)‑17×WRa(LLL)>0 ...(i)其中每个频率分量的中心线平均粗糙度(WRa)是基于一维数据阵列的中心线平均粗糙度,其通过以下方法获得:用表面粗糙度/表面轮廓的测量设备测量所述电子照相光电导体的表面上的凹陷和凸起的形状,以获得一维数据阵列,对所述一维数据阵列进行多分辨率分析(MRA‑1)和(MRA‑2)以将其分成从最高频率分量到最低频率分量的不同频率分量;并且HML、HLH、LHL、LMH、LML、LLH和LLL每一个依次代表当所述一维数据阵列分成具有下述中一个凹凸周期长度的频率分量时获得的各个频带:4μm至25μm、10μm至50μm、53μm至183μm、106μm至318μm、214μm至551μm、431μm至954μm和867μm至1654μm。
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