[发明专利]制备异氰酸酯的方法和设备有效
| 申请号： | 201080012616.0 | 申请日： | 2010-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN102361852A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | T·马特克;C·克内彻;B·鲁姆普夫;E·施特勒费尔 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C07C263/10 | 分类号： | C07C263/10;C07C265/00;B01J19/00;F28D7/00;F28D9/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 张秋林;刘金辉 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种通过将相应胺与光气在气相中，如果适用在惰性介质存在下转化而生产异氰酸酯的方法，其中首先使光气和胺蒸发，然后过热至反应温度，将过热的光气与胺混合并加入在其中将光气和胺转化为异氰酸酯的反应器中，其中光气在高于300℃的温度下的停留时间等于最大值5秒和/或与光气接触的传热表面的温度最多比将达到的光气温度高20K。本发明还涉及一种用于通过将相应胺与光气在气相中转化而生产异氰酸酯的设备。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 氰酸 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种通过使相应胺与光气在气相中，任选在惰性介质存在下反应而制备异氰酸酯的方法，其中首先使光气和胺蒸发，然后进一步过热至反应温度，并将过热的光气与胺混合和供入在其中将光气和胺转化为异氰酸酯的反应器中，特征在于至少一个如下特征：(a)光气在高于300℃的温度下的停留时间不大于5秒，(b)与光气接触的传热表面的温度比将达到的光气温度高至多20K。
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