[发明专利]沸石分离膜构件、其制造方法、混合流体的分离方法以及混合流体分离装置有效
| 申请号： | 201080012623.0 | 申请日： | 2010-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN102348494A | 公开（公告）日： | 2012-02-08 |
| 发明（设计）人： | 河合应明;富田俊弘;森伸彦;佐藤绫 | 申请（专利权）人： | 日本碍子株式会社 |
| 主分类号： | B01D71/02 | 分类号： | B01D71/02;B01D69/10;C01B37/02 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 徐申民;李晓 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供沸石分离膜构件、其制造方法、混合流体的分离方法、以及混合流体分离装置，该沸石分离膜构件具有大于沸石晶体的固有细孔、控制在适当范围的间隙或细孔，对于吸附性差较小的成分或分子径小于该细孔的成分，可兼备高透过性和高分离性。沸石分离膜构件包括沸石膜，该沸石分离膜构件在室温下的N2气体的透过速度为1.0×10-6mol·m-2·s-1·Pa-1以上，且室温下的1，3，5-三甲苯/N2的透过速度比为0.17以上，且不会出现由于罗丹明B的渗透引起的染色。 | ||
| 搜索关键词： | 分离 构件 制造 方法 混合 流体 以及 装置 | ||
【主权项】：
沸石分离膜构件，其包括沸石膜，该沸石分离膜构件在室温下的N2气体的透过速度为1.0×10‑6mol·m‑2·s‑1·Pa‑1以上，且室温下的1，3，5‑三甲苯/N2的透过速度比为0.17以上，且不会出现由于罗丹明B的渗透引起的染色。
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