[发明专利]过滤系统有效
申请号: | 201080013469.9 | 申请日: | 2010-03-23 |
公开(公告)号: | CN102361682A | 公开(公告)日: | 2012-02-22 |
发明(设计)人: | 李光珍 | 申请(专利权)人: | 可隆工业株式会社 |
主分类号: | B01D65/08 | 分类号: | B01D65/08;B01D65/02;B01D63/00 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 许向彤;林锦辉 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开一种相比过滤膜组件的曝气清洁所消耗的能量有助于最大化清洁效率并最小化曝气管的水平依赖性的过滤系统,所述过滤系统包括位于多个过滤膜组件下方的第一和第二曝气管,其中,第一和第二曝气管之间的距离和曝气孔的直径限制在预定范围内。 | ||
搜索关键词: | 过滤 系统 | ||
【主权项】:
一种过滤系统,包括:多个过滤膜组件;第一曝气管,位于所述多个过滤膜组件下方;以及第二曝气管,紧邻所述第一曝气管,所述第二曝气管位于所述多个过滤膜组件下方,其中,所述第一曝气管包括多个第一曝气孔,所述多个第一曝气孔包括第一参考曝气孔,其中在所述第一曝气孔中所述第一参考曝气孔最靠近所述第二曝气管,其中,所述第二曝气管包括多个第二曝气孔,所述多个第二曝气孔包括第二参考曝气孔,其中在所述第二曝气孔中所述第二参考曝气孔最靠近所述第一参考曝气孔,并且其中,调节所述第一参考曝气孔和第二参考曝气孔之间的距离以满足下述公式1:[公式1]0.9·2·(H+d)·tan(θ/2)≤D≤1.1·2·(H+d)·tan(θ/2)其中,“D”是所述第一参考曝气孔和所述第二参考曝气孔之间的距离(m),“H”是过滤膜组件的高度(m),“d”是所述第一参考曝气孔和所述过滤膜组件之间的距离(m),“θ”是曝气角。
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