[发明专利]用于在光聚合物表面上产生光掩模的工艺有效
| 申请号： | 201080013570.4 | 申请日： | 2010-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN102365584A | 公开（公告）日： | 2012-02-29 |
| 发明（设计）人： | 摩西·夫伦克尔;亚科夫·马祖兹;奥列格·布瑞森;纳塔莉亚·伊万诺娃 | 申请（专利权）人： | 迪吉福来克斯有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;B41C1/10 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 杨洲;郑霞 |
| 地址： | 以色列*** | 国省代码： | 以色列;IL |
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| 摘要： | 提供了一种在光聚合物表面上印刷高分辨率图案的工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 聚合物 表面上 生光 工艺 | ||
【主权项】：
一种用于在光聚合物表面上产生光掩模的工艺，所述工艺包括提供光聚合物表面，所述光聚合物表面任选地已经被具有至少一种活性组分的膜涂覆，在所述表面(或膜)上直接印刷至少一种油墨，以由此影响多个油墨液滴固定为油墨网点，以在所述表面(或膜)上形成图案，所述图案是吸收UV的。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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