[发明专利]有机半导体墨组合物和使用其的有机半导体图案形成方法无效
| 申请号： | 201080014970.7 | 申请日： | 2010-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN102378794A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 高武正义;笠井正纪;米原祥友;高野圣史;所宽树 | 申请（专利权）人： | DIC株式会社 |
| 主分类号： | C09D11/00 | 分类号： | C09D11/00;B41M1/02;H01L21/336;H01L29/786;H01L51/05;H01L51/40 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种最适合于微接触印刷法、反转印刷法等使用防液性的转印用基版来转印图案从而形成有机晶体管的方法的墨，即，提供一种能够在防液性的转印用基版表面形成均匀的墨涂膜、且墨干燥膜或半干燥膜能够容易通过转印基版而转印到被转印基材上的有机半导体墨组合物。此外，提供使用了上述有机半导体墨组合物的有机晶体管的有机半导体图案的形成方法。本发明涉及一种有机半导体墨组合物，其特征在于，其为用于将在防液性的转印用基版上形成的墨层转印到印刷基材上从而得到所期望的图案的有机半导体墨组合物，其含有有机半导体、有机溶剂和氟系表面活性剂。 | ||
| 搜索关键词： | 有机半导体 组合 使用 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种有机半导体墨组合物，其特征在于，其为用于将在防液性的转印用基版上形成的墨层转印到印刷基材上从而得到所期望的图案的有机半导体墨组合物，且其含有有机半导体、有机溶剂和氟系表面活性剂。
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