[发明专利]辐射源模块和流体处理系统

摘要

描述一种特别适合于流体(较佳的是水)流的辐射处理的流体处理系统。系统包括流体处理区域，用于接收与流体处理区域的表面接触的流体的流动。至少一个细长的辐射源组件被设置在流体处理区域中。该细长的辐射源组件具有纵轴，与流过所述流体处理区域的流体的方向横向地设置纵轴。系统进一步包括清洗设备，清洗设备具有与至少一个细长的辐射源组件的外表面接触的至少一个清洗构件。第一发动构件被设置并且能够被操作，以便在至少一个细长的辐射源组件的远端和流体处理区域的表面之间引起相对移动，从而在它们之间限定间隔。第二发动构件被设置并且被连接到清洗系统。第二发动构件能够被操作，以便在清洗设备缩回位置和清洗设备延伸位置之间移动清洗系统。清洗系统从清洗设备缩回位置到延伸位置的移动使得接触至少一个细长的辐射源组件的屑被推到间隔中。还描述在这种流体处理系统中进一步使用的辐射源模块。

主权项

一种流体处理系统，其特征在于，包括：流体处理区域，用于接收与所述流体处理区域的表面接触的流体流；设置在所述流体处理区域中的至少一个细长的辐射源组件，所述细长的辐射源组件具有纵轴，与流过所述流体处理区域的流体的方向横向地设置所述纵轴；清洗设备，具有与所述至少一个细长的辐射源组件的外表面接触的至少一个清洗构件；第一发动构件，能够被操作，以便在所述至少一个细长的辐射源组件的远端和所述流体处理区域的所述表面之间引起相对移动，从而在它们之间限定间隔；和连接到所述清洗系统的第二发动构件，所述第二发动构件能够被操作，以便在清洗设备缩回位置和清洗设备延伸位置之间移动所述清洗系统，其中，所述清洗系统从所述清洗设备缩回位置到所述延伸位置的移动使得接触所述至少一个细长的辐射源组件的碎屑被推到所述间隔中。