[发明专利]用于沉积薄膜的装置、方法及系统有效
| 申请号： | 201080015804.9 | 申请日： | 2010-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN102369306A | 公开（公告）日： | 2012-03-07 |
| 发明（设计）人： | 裵勍彬;尹亨硕;姜敞晧;权铉九 | 申请（专利权）人： | 韩商SNU精密股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/12;H05B33/10 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陆勍 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于沉积一薄膜的装置、一种适用于所述装置的用于沉积一薄膜的方法、以及一种包含所述装置的用于沉积一薄膜的系统，所述装置包含：一腔室，用以提供一反应空间；一第一基板支架及一第二基板支架，彼此间隔开并安装于所述腔室中；以及一沉积源，安装于所述第一基板支架与所述第二基板支架之间，且用以于所述第一基板支架与所述第二基板支架的方向依序供应一沉积原料。根据本发明，因可透过设置于各所述工艺腔室中的单个沉积源对设置于各所述工艺腔室中的二或更多条生产线依序执行薄膜工艺，故可节约制造成本并同时提高生产率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 薄膜 装置 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种用于沉积一薄膜的装置，包含：一腔室，用以提供一反应空间；一第一基板支架及一第二基板支架，彼此间隔开并安装于所述腔室中；以及一沉积源，安装于所述第一基板支架与所述第二基板支架之间，且用以于所述第一基板支架与所述第二基板支架的方向依序供应一沉积原料。
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