[发明专利]蚀刻剂组合物和方法

摘要

本发明提供了蚀刻剂组合物以及使用所述组合物蚀刻基板的方法，所述组合物包含：A)提供约0.025重量％至约0.8重量％活性氧的高浓度过一硫酸氢钾；B)按所述组合物的重量计约0.01％至约30％的B1)有机酸、有机酸的碱金属盐、有机酸的铵盐、或有机酸的均聚物，或B2)四唑或苯的卤盐或硝酸盐，或B3)组分B1)和B2)的混合物；和C)按所述组合物的重量计约0％至约97.49％的水。

主权项

蚀刻剂组合物在蚀刻第一金属薄膜和第二金属薄膜，或者共同湿法蚀刻包含所述第一金属薄膜、第二金属薄膜以及任选的附加金属薄膜的多层薄膜中的用途，其中该第一金属薄膜包含钼，而第二金属薄膜包含铜，其中所述蚀刻剂组合物包含：A) 具有0.025重量%至0.8重量%活性氧的高浓度过一硫酸氢钾，并且其中活性氧与惰性硫酸盐的重量比为0.8:1至1.7:1；B) 按所述组合物的重量计0.01%至30%的B1）有机酸，该有机酸选自乙酸、丁酸、柠檬酸、甲酸、葡萄糖酸、乙醇酸、丙二酸、戊酸、磺基苯甲酸、磺基琥珀酸、磺基酞酸、水杨酸、磺基水杨酸、苯甲酸、乳酸、甘油酸、琥珀酸、苹果酸、酒石酸、异柠檬酸和丙烯酸、有机酸的碱金属盐、有机酸的铵盐、或有机酸的均聚物，或B2）、四唑或苯的卤盐或硝酸盐，或B3）组分B1）和B2）的混合物；C) 按所述组合物的重量计0.01%至10%的辅助氧化剂，其选自铁盐及其水合物；以及D) 按所述组合物的重量计0%至97.49%的水。