[发明专利]钼基靶和通过热喷镀制备靶的方法在审
申请号: | 201080016267.X | 申请日: | 2010-04-12 |
公开(公告)号: | CN102388159A | 公开(公告)日: | 2012-03-21 |
发明(设计)人: | D·比耶尔 | 申请(专利权)人: | 圣戈班涂敷技术公司 |
主分类号: | C23C4/12 | 分类号: | C23C4/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 黄念;林森 |
地址: | 法国阿*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及包含至少一种钼基化合物的具有公称厚度的靶,特征在于它具有:层状微结构;低于1000ppm,优选地低于600ppm,甚至更优选地低于450ppm的氧含量;低于该化合物的理论电阻率的五倍、优选地三倍,更优选地二倍的电阻率。 | ||
搜索关键词: | 钼基靶 通过 热喷镀 制备 方法 | ||
【主权项】:
包含至少一种钼基化合物的具有公称厚度的靶,特征在于它具有:‑层状微结构;‑低于1000ppm,优选地低于600ppm,甚至更优选地低于450ppm的氧含量;‑低于该化合物的理论电阻率的五倍、优选地三倍,更优选地二倍的电阻率。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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