[发明专利]钼基靶和通过热喷镀制备靶的方法在审

专利信息
申请号: 201080016267.X 申请日: 2010-04-12
公开(公告)号: CN102388159A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: D·比耶尔 申请(专利权)人: 圣戈班涂敷技术公司
主分类号: C23C4/12 分类号: C23C4/12
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 黄念;林森
地址: 法国阿*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及包含至少一种钼基化合物的具有公称厚度的靶,特征在于它具有:层状微结构;低于1000ppm,优选地低于600ppm,甚至更优选地低于450ppm的氧含量;低于该化合物的理论电阻率的五倍、优选地三倍,更优选地二倍的电阻率。
搜索关键词: 钼基靶 通过 热喷镀 制备 方法
【主权项】:
包含至少一种钼基化合物的具有公称厚度的靶,特征在于它具有:‑层状微结构;‑低于1000ppm,优选地低于600ppm,甚至更优选地低于450ppm的氧含量;‑低于该化合物的理论电阻率的五倍、优选地三倍,更优选地二倍的电阻率。
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