[发明专利]聚合物纳米颗粒有效
| 申请号： | 201080017554.2 | 申请日： | 2010-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN102405239A | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 汉斯约尔格·格吕茨马赫;蒂莫·奥特 | 申请（专利权）人： | 瑞士联邦苏黎世技术大学 |
| 主分类号： | C08F2/24 | 分类号： | C08F2/24;C08F2/50;C07F9/53 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 李丙林;张英 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及具有低多分散性的聚合物纳米颗粒，以及用于制备这样的聚合物纳米颗粒的光诱导方法。本发明进一步涉及适于进行所述方法的新型光敏引发剂。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物 纳米 颗粒 | ||
【主权项】：
1.一种通过光诱导的乳液聚合用于制备聚合物纳米颗粒的方法，其包括至少以下步骤：A)制备包含至少一种表面活性剂、分散相和连续相的乳液，由此所述分散相包含一种或多种可聚合单体，所述连续相包含水和一种或多种光敏引发剂；B)通过将所述乳液暴露于电磁辐射而聚合一种或多种可聚合单体，所述电磁辐射具有的波长足以诱导来自一种或多种光敏引发剂的自由基的产生，其中所述光敏引发剂选自式(I)的化合物：![]()
其中n为1或2，m为1或2，如果n＝1，R1为C6-C14-芳基或杂环基，或为C1-C18-烷氧基、-N(R4)2、C1-C18-烷基、C2-C18-烯基、C7-C20-芳烷基，其没有被、一次、两次或多于两次被选自由以下组成的组中的不连续的官能团中断：-O-、-S-、-SO2-、-SO-、-SO2NR4-、NR4SO2-、-NR4-、-N+(R4)2An--、-CO-、-O(CO)-、(CO)O-、-O(CO)O-、-NR4(CO)NR4-、NR4(CO)-、-(CO)NR4-、-NR4(CO)O-、-O(CO)NR4-、-Si(R5)2-、-OSi(R5)2-、-OSi(R5)2O-、-Si(R5)2O-，并且其没有被、一次、两次或多于两次被选自由杂环-二基、杂环-二基鎓+An-和C6-C14-芳二基组成的组中的二价残基中断，并且其没有被、另外地或可替换地一次、两次或多于两次被选自由以下组成的组中的取代基取代：卤基、氰基、叠氮基、环氧基、C6-C14-芳基、C1-C8-烷基、C1-C8-烷氧基、C2-C8-烯基、C1-C8-烷硫基、C7-C20-芳烷基、羟基、-SO3M、-COOM、PO3M2、-PO(N(R5)2)2、PO(OR5)2、-SO2N(R4)2、-N(R4)2、-N+(R4)3An-、杂环基鎓+An-、-CO2N(R5)2、-COR4、-OCOR4、-NR4(CO)R5、-(CO)OR4、-NR4(CO)N(R4)2、-Si(OR5)y(R5)3-y、-OSi(OR5)y(R5)3-y，y＝1、2或3，如果n＝2，R1为C6-C15-芳二基或为C4-C18-烷二基、C4-C18-烯二基、C4-C18-炔二基，其没有被、一次、两次或多于两次被选自由以下组成的组中的不连续基团中断：-O-、-SO2-、-NR4-、-N+(R4)2An--、-CO-、-OCO-、-O(CO)O-、NR4(CO)-、-NR4(CO)O-、O(CO)NR4-、-NR4(CO)NR4-、C6-C15-芳基、杂环-二基和杂环-二基鎓+An-，并且其没有被、另外地或可替换地一次、两次或多于两次被选自由以下组成的组中的取代基取代：卤基、氰基、C6-C14-芳基、杂环基、杂环-二基鎓+An-、C1-C8-烷基、C1-C8-烷氧基、C1-C8-烷硫基、-SO3M、-COOM、PO3M2、-N(R4)2、-N+(R4)3An-、-CO2N(R4)2、-OCOR4-、-O(CO)OR4-、NR4(CO)R5、-NR3(CO)OR5、O(CO)N(R4)2、-NR4(CO)N(R4)2，或为二价二(C6-C15)-芳基，其没有被或一次被选自由以下组成的组的基团中断：-O-、-S-、C4-C18-烷二基、C4-C18-烯二基，R2为C6-C14-芳基或杂环基或为C1-C18-烷基、C2-C18-烯基、C7-C20-芳烷基，其没有被、一次、两次或多于两次被选自由以下组成的组中的不连续的官能团中断：-O-、-NR4-、-N+(R4)2An--、-CO-、-OCO-、-O(CO)O-、NR4(CO)-、-NR4(CO)O-、O(CO)NR4-、-NR4(CO)NR4-，并且其没有被、一次、两次或多于两次被选自由杂环-二基、杂环-二基鎓+An-和C6-C14-芳二基组成的组中的二价残基中断，并且其没有被、另外地或可替换地一次、两次或多于两次被选自由以下组成的组中的取代基取代：卤基、氰基、C6-C14-芳基；杂环基、C1-C8-烷基、C1-C8-烷氧基、C1-C8-烷硫基、C2-C8-烯基、C4-C15-芳烷基、-COOM、-SO3M、-PO3M2、-SO2N(R4)2、-NR4SO2R5、-N(R4)2-、-N+(R4)3An-、-CO2N(R4)2、-COR4-、-OCOR5、-O(CO)OR5、NR4(CO)R4、-NR4(CO)OR4、O(CO)N(R4)2、-NR4(CO)N(R4)2，R3独立地指当n为1时如R1定义的取代基，由此R4独立地选自由氢、C1-C8-烷基、C6-C14-芳基、C7-C15-芳烷基和杂环基构成的组，或者N(R4)2整体上为含N杂环，或者N+(R4)2An-和N+(R4)3An-整体上为或包含具有抗衡阴离子的阳离子含N杂环，R5独立地选自由C1-C8-烷基、C6-C14-芳基、C7-C15-芳烷基和杂环基构成的组，或者N(R5)2整体上为含N杂环，或者N+(R5)2An-和N+(R5)3An-整体上为或包含具有抗衡阴离子的阳离子含N杂环，M为氢，或q价金属离子的1/q当量或为铵离子或伯、仲、叔或季有机铵离子或胍盐离子，以及An-为p价阴离子的1/p当量。
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