[发明专利]光刻设备和检测器设备无效
| 申请号： | 201080018207.1 | 申请日： | 2010-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN102414622A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | I·尼古拉伊夫;M·维伦斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01J1/58 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 检测器包括闪烁材料层、设置在闪烁材料上的间隔材料层以及设置在间隔材料上的光谱纯度滤光片层。检测方法包括步骤：引导EUV辐射通过光谱纯度滤光片层、通过设置在光谱纯度滤光片层下面的间隔材料层以及至闪烁材料层上，然后，使用检测由闪烁材料发射的闪烁辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 检测器 | ||
【主权项】：
一种检测器设备，包括：检测器，设置有闪烁材料层、设置在闪烁材料上的间隔材料层以及设置在间隔材料上的光谱纯度滤光片层。
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