[发明专利]利用具有不同检验量的XRF分析对关注元素定位有效
申请号: | 201080018621.2 | 申请日: | 2010-04-30 |
公开(公告)号: | CN102414556A | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | 里·哥罗德金斯 | 申请(专利权)人: | 特莫尼托恩分析仪器股份有限公司 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;王艳春 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 公开了用于通过比较从至少两个有区别但重叠的检验量获得的XRF光谱来定位样品中的关注元素的装置和方法。通过改变激励的和/或发荧光的x射线束来改变检验量,该激励的和/或发荧光的x射线束通过重新配置多孔的准直仪来完成。从不同的检验量获得的XRF光谱的比较提供了关于关注元素(例如,铅)是存在于涂层中,存在于下方的本体材料中,或是存在于两者之中的指示。 | ||
搜索关键词: | 利用 具有 不同 检验 xrf 分析 关注 元素 定位 | ||
【主权项】:
一种通过x射线荧光(XRF)分析检验样品的方法,包括:使用具有适于引起关注元素发射特征荧光x射线的能量的激励x射线束来辐照样品;探测从至少部分定位于所述样品中的第一检验量发出的荧光x射线,并测量从所述第一检验量发出的被探测的荧光x射线的第一强度;探测从至少部分定位于所述样品中的第二检验量发出的荧光x射线,并测量从所述第二检验量发出的被探测的荧光x射线的第二强度,其中所述第一检验量与所述第二检验量重叠并且不等同于所述第二检验量;将所述第一强度与所述第二强度进行比较;以及基于所述比较确定所述关注元素的定位。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于特莫尼托恩分析仪器股份有限公司,未经特莫尼托恩分析仪器股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080018621.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种磨砂瓶体的制作方法
- 下一篇:压强调节器