[发明专利]用于沉积和外延剥离过程的平铺衬底有效

专利信息
申请号: 201080018652.8 申请日: 2010-03-01
公开(公告)号: CN102414837A 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 何甘;安德里斯·G·海吉杜斯 申请(专利权)人: 奥塔装置公司
主分类号: H01L31/042 分类号: H01L31/042
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 周靖;郑霞
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明的实施例大体上涉及外延剥离(ELO)膜和用于生产这样的膜的方法。实施例提供一种同时和分别地在公共支撑衬底上生长多个ELO膜或者堆的方法,该公共支撑衬底平铺有许多外延生长衬底或者表面。其后,ELO膜在ELO过程中通过蚀刻步骤从外延生长衬底去除。平铺的生长衬底包含布置在支撑衬底上的外延生长衬底,所述外延生长衬底可以重复用于生长其他的ELO膜。在一个实施方式中,提供了平铺的生长衬底,其包括两个或者两个以上分开布置在支撑衬底上的砷化镓生长衬底,所述支撑衬底具有在大约5×10-6℃-1到大约9×10-6℃-1的范围内的热膨胀系数。
搜索关键词: 用于 沉积 外延 剥离 过程 平铺 衬底
【主权项】:
一种砷化镓衬底组件,包括:支撑衬底,其包含在大约5×10‑6℃‑1到大约9×10‑6℃‑1的范围内的热膨胀系数;粘附层,其布置在所述支撑衬底上;和至少两个砷化镓生长衬底,其分开布置在所述粘附层上并且彼此邻近,其中间隙在所述砷化镓生长衬底之间延伸并且将所述砷化镓生长衬底彼此分离。
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